真空旋转蒸发仪是一种常用的材料表面薄膜制备工具,它的装置图如下:
该装置主要由以下组件组成:
1.真空室:该部分用于提供高真空环境,通常采用不锈钢材质制作,并且有多个进出口,以方便连接其他部件。
2.旋转衬底:将待制备材料沉积在衬底上,通常采用圆形玻璃衬底,可以通过电机驱动实现旋转。
3.蒸发源:该部分是真空旋转蒸发仪的核心组成部分,其功能是将待制备材料加热,并将其蒸发到真空室中。蒸发源通常采用钨丝或电子束加热器,可以通过控制加热功率和蒸发速率来控制材料的沉积量。
4.光束照射器:这部分用于照射蒸发材料,将其激发成高能态,从而改变其表面化学性质。
5.衬底加热器:通常采用辐射加热方式,可以将衬底加热到高温,从而改变其表面形貌和化学性质。
通过上述组件的组合,真空旋转蒸发仪可以实现对材料表面的精确控制,从而制备出具有特定物理、化学性质的薄膜。该装置在材料科学、化学、物理等领域有着广泛的应用,特别是在微电子、光电子、纳米材料等领域有着重要的地位。